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鑫海森为你讲解高精度蚀刻技术：反应离子蚀刻
反应离子蚀刻技术是一种物理化学工艺过程。化学反应气体(自由基、离子)与待除去的铜箔反应。生成一种挥发性气体化合物，它很容易从此表面上抽吸掉。反应等离子蚀刻是有选择性的，优先与要去除的铜箔发生反应，但不与保护胶发生反应。反应离子蚀刻可以是全方位的(各向同性)，也可以是有方向性的(各向异性)，取决于使用的等离子条件。当然，在高精度的制造场合，我们选取的是其各向异性的特征。该蚀刻方式不仅蚀刻精度高，而且蚀刻速率快(每分钟蚀刻铜箔的速率为几千埃)，是最为理想的高精度时刻方式。
深圳市鑫海森科技有限公司主要进行精密五金件的加工，产品涉及的范围相当广泛，涵盖了通讯、声学、光学、医疗等领域。如果您对我们的蚀刻技术感兴趣，请联系我们：0755-29791052。
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